Oblea de substrato SiC 4H-semi HPSI 2 polgadas Producción Dummy Grao de investigación

O substrato de carburo de silicio divídese principalmente en tipo condutor e semi-illante, o substrato condutor de carburo de silicio ao substrato tipo n úsase principalmente para LED epitaxial baseado en GaN e outros dispositivos optoelectrónicos, dispositivos electrónicos de potencia baseados en SiC, etc., e semi- O substrato illante de carburo de silicio SiC úsase principalmente para a fabricación epitaxial de dispositivos de radiofrecuencia de alta potencia GaN.Ademais, o semi-illamento de alta pureza HPSI e o semi-illamento SI é diferente, a concentración de portadores de semi-illamento de alta pureza de 3,5 * 1013 ~ 8 * 1015/cm3 rango, con alta mobilidade de electróns;semi-illamento é un material de alta resistencia, a resistividade é moi alta, xeralmente usado para substratos de dispositivos de microondas, non condutor.

Lámina de substrato semiisolante de carburo de silicio, oblea de SiC

A estrutura cristalina de SiC determina a súa física, en relación co Si e GaAs, o SiC ten para as propiedades físicas;O ancho de banda prohibido é grande, preto de 3 veces o de Si, para garantir que o dispositivo funcione a altas temperaturas baixo a fiabilidade a longo prazo;intensidade de campo de ruptura é alta, é 1O veces a de Si, para garantir que a capacidade de tensión do dispositivo, mellorar o valor de tensión do dispositivo;taxa de saturación de electróns é grande, é 2 veces a de Si, para aumentar a frecuencia do dispositivo e densidade de potencia;a condutividade térmica é alta, máis que Si, a condutividade térmica é alta, a condutividade térmica é alta, a condutividade térmica é alta, a condutividade térmica é alta, máis que o Si, a condutividade térmica é alta, a condutividade térmica é alta.Alta condutividade térmica, máis de 3 veces a do Si, aumentando a capacidade de disipación de calor do dispositivo e realizando a miniaturización do dispositivo.