Oblea de carburo de silicio SiC Oblea de SiC 4H-N 6H-N HPSI (Semiaislante de alta pureza) 4H/6H-P 3C -n tipo 2 3 4 6 8 pulgadas dispoñible
Propiedades
4H-N e 6H-N (obleas de SiC tipo N)
Aplicación:Úsase principalmente en electrónica de potencia, optoelectrónica e aplicacións de alta temperatura.
Rango de diámetro:50,8 mm a 200 mm.
Espesor:350 μm ± 25 μm, con espesores opcionais de 500 μm ± 25 μm.
Resistividad:4H/6H-P tipo N: ≤ 0,1 Ω·cm (grado Z), ≤ 0,3 Ω·cm (grado P); 3C-N tipo N: ≤ 0,8 mΩ·cm (grado Z), ≤ 1 mΩ·cm (grado P).
Rugosidade:Ra ≤ 0,2 nm (CMP ou MP).
Densidade de microtubo (MPD):< 1 ea/cm².
TTV: ≤ 10 μm para todos os diámetros.
Deformación: ≤ 30 μm (≤ 45 μm para obleas de 8 polgadas).
Exclusión de borde:3 mm a 6 mm dependendo do tipo de oblea.
Embalaxe:Casete de obleas múltiples ou recipiente de obleas simples.
Outro tamaño dispoñible 3 polgadas 4 polgadas 6 polgadas 8 polgadas
HPSI (Obleas de SiC semiaislantes de alta pureza)
Aplicación:Utilízase para dispositivos que requiren alta resistencia e rendemento estable, como dispositivos de RF, aplicacións fotónicas e sensores.
Rango de diámetro:50,8 mm a 200 mm.
Espesor:Espesor estándar de 350 μm ± 25 μm con opcións para obleas máis grosas de ata 500 μm.
Rugosidade:Ra ≤ 0,2 nm.
Densidade de microtubo (MPD): ≤ 1 ea/cm².
Resistividad:Alta resistencia, normalmente usado en aplicacións semi-illantes.
Deformación: ≤ 30 μm (para tamaños máis pequenos), ≤ 45 μm para diámetros maiores.
TTV: ≤ 10 μm.
Outro tamaño dispoñible 3 polgadas 4 polgadas 6 polgadas 8 polgadas
4H-P、6H-P&3C Oblea de SiC(Obleas de SiC tipo P)
Aplicación:Principalmente para dispositivos de potencia e de alta frecuencia.
Rango de diámetro:50,8 mm a 200 mm.
Espesor:350 μm ± 25 μm ou opcións personalizadas.
Resistividad:Tipo P 4H/6H-P: ≤ 0,1 Ω·cm (grado Z), ≤ 0,3 Ω·cm (grado P).
Rugosidade:Ra ≤ 0,2 nm (CMP ou MP).
Densidade de microtubo (MPD):< 1 ea/cm².
TTV: ≤ 10 μm.
Exclusión de borde:3 mm a 6 mm.
Deformación: ≤ 30 μm para tamaños máis pequenos, ≤ 45 μm para tamaños maiores.
Outro tamaño dispoñible 3 polgadas 4 polgadas 6 polgadas5×5 10×10
Táboa de parámetros de datos parciais
Propiedade | 2 polgadas | 3 polgadas | 4 polgadas | 6 polgadas | 8 polgadas | |||
Tipo | 4H-N/HPSI/ | 4H-N/HPSI/ | 4H-N/HPSI//4H/6H-P/3C; | 4H-N/HPSI//4H/6H-P/3C; | 4H-N/HPSI/4H-SEMI | |||
Diámetro | 50,8 ± 0,3 mm | 76,2 ± 0,3 mm | 100 ± 0,3 mm | 150 ± 0,3 mm | 200 ± 0,3 mm | |||
Espesor | 330 ± 25 um | 350 ± 25 um | 350 ± 25 um | 350 ± 25 um | 350 ± 25 um | |||
350 ± 25um; | 500 ± 25 um | 500 ± 25 um | 500 ± 25 um | 500 ± 25 um | ||||
ou personalizado | ou personalizado | ou personalizado | ou personalizado | ou personalizado | ||||
Rugosidade | Ra ≤ 0,2 nm | Ra ≤ 0,2 nm | Ra ≤ 0,2 nm | Ra ≤ 0,2 nm | Ra ≤ 0,2 nm | |||
Deformación | ≤ 30um | ≤ 30um | ≤ 30um | ≤ 30um | ≤45um | |||
TTV | ≤ 10um | ≤ 10um | ≤ 10um | ≤ 10um | ≤ 10um | |||
Raixar/Escavar | CMP/MP | |||||||
MPD | <1 unidade/cm-2 | <1 unidade/cm-2 | <1 unidade/cm-2 | <1 unidade/cm-2 | <1 unidade/cm-2 | |||
Forma | Redondo, plano 16 mm; de lonxitude 22 mm; DE Lonxitude 30/32,5 mm; DE Lonxitude 47,5 mm; NOTCH; NOTCH; | |||||||
Bisel | 45°, Especificación SEMI; Forma C | |||||||
Grao | Grao de produción para MOS&SBD; Grao de investigación; Grao ficticio, grao de oblea de sementes | |||||||
Observacións | Diámetro, espesor, orientación, especificacións anteriores pódense personalizar baixo a súa solicitude |
Aplicacións
·Electrónica de Potencia
As obleas de SiC tipo N son cruciais nos dispositivos electrónicos de potencia debido á súa capacidade para manexar alta tensión e alta corrente. Utilízanse habitualmente en conversores de enerxía, inversores e motores para industrias como as enerxías renovables, os vehículos eléctricos e a automatización industrial.
· Optoelectrónica
Os materiais SiC de tipo N, especialmente para aplicacións optoelectrónicas, empréganse en dispositivos como díodos emisores de luz (LED) e díodos láser. A súa alta condutividade térmica e a súa ampla banda intermitente fan que sexan ideais para dispositivos optoelectrónicos de alto rendemento.
·Aplicacións de alta temperatura
As obleas de SiC 4H-N 6H-N son moi adecuadas para ambientes de alta temperatura, como en sensores e dispositivos de enerxía utilizados en aplicacións aeroespaciais, automotivas e industriais onde a disipación de calor e a estabilidade a temperaturas elevadas son fundamentais.
·Dispositivos de RF
As obleas de SiC 4H-N 6H-N úsanse en dispositivos de radiofrecuencia (RF) que funcionan en rangos de alta frecuencia. Aplícanse en sistemas de comunicación, tecnoloxía de radar e comunicacións por satélite, onde se require unha alta eficiencia energética e rendemento.
·Aplicacións fotónicas
En fotónica, as obleas de SiC úsanse para dispositivos como fotodetectores e moduladores. As propiedades únicas do material permiten que sexa eficaz na xeración, modulación e detección de luz en sistemas de comunicación óptica e dispositivos de imaxe.
·Sensores
As obleas de SiC úsanse nunha variedade de aplicacións de sensores, especialmente en ambientes duros onde outros materiais poden fallar. Estes inclúen sensores de temperatura, presión e químicos, que son esenciais en campos como a automoción, o petróleo e o gas e a vixilancia ambiental.
·Sistemas de accionamento de vehículos eléctricos
A tecnoloxía SiC xoga un papel importante nos vehículos eléctricos ao mellorar a eficiencia e o rendemento dos sistemas de propulsión. Con semicondutores de potencia SiC, os vehículos eléctricos poden acadar unha mellor duración da batería, tempos de carga máis rápidos e unha maior eficiencia enerxética.
·Sensores avanzados e conversores fotónicos
Nas tecnoloxías de sensores avanzadas, as obleas de SiC úsanse para crear sensores de alta precisión para aplicacións en robótica, dispositivos médicos e vixilancia ambiental. Nos conversores fotónicos, as propiedades do SiC son explotadas para permitir a conversión eficiente de enerxía eléctrica en sinais ópticos, que é vital nas infraestruturas de telecomunicacións e internet de alta velocidade.
Preguntas e respostas
Q:Que é 4H en 4H SiC?
A:"4H" en 4H SiC refírese á estrutura cristalina do carburo de silicio, concretamente unha forma hexagonal con catro capas (H). A "H" indica o tipo de politipo hexagonal, distinguíndoo doutros politipos de SiC como 6H ou 3C.
Q:Cal é a condutividade térmica do 4H-SiC?
A:A condutividade térmica do 4H-SiC (carburo de silicio) é de aproximadamente 490-500 W/m·K a temperatura ambiente. Esta alta condutividade térmica faino ideal para aplicacións en electrónica de potencia e ambientes de alta temperatura, onde a disipación de calor eficiente é crucial.