Oblea de silicio de 8 polgadas tipo P/N (100) 1-100Ω substrato de recuperación ficticio

Descrición curta:

Gran inventario de obleas pulidas de dobre cara, todas as obleas de 50 a 400 mm de diámetro Se a súa especificación non está dispoñible no noso inventario, establecemos relacións a longo prazo con moitos provedores que son capaces de fabricar obleas a medida para adaptarse a calquera especificación única.As obleas pulidas de dobre cara pódense usar para silicio, vidro e outros materiais que se usan habitualmente na industria de semicondutores.


Detalle do produto

Etiquetas de produtos

Introdución da caixa de obleas

A oblea de silicio de 8 polgadas é un material de substrato de silicio de uso habitual e úsase amplamente no proceso de fabricación de circuítos integrados.Tales obleas de silicio úsanse habitualmente para facer varios tipos de circuítos integrados, incluíndo microprocesadores, chips de memoria, sensores e outros dispositivos electrónicos.As obleas de silicio de 8 polgadas úsanse habitualmente para facer chips de tamaños relativamente grandes, con vantaxes que inclúen unha maior superficie e a capacidade de facer máis chips nunha única oblea de silicio, o que leva a unha maior eficiencia de produción.A oblea de silicio de 8 polgadas tamén ten boas propiedades mecánicas e químicas, que son adecuadas para a produción de circuítos integrados a gran escala.

Características do produto

8" tipo P/N, oblea de silicona pulida (25 unidades)

Orientación: 200

Resistividad: 0,1 - 40 ohm•cm (pode variar de lote a lote)

Espesor: 725 +/-20um

Prime/Monitor/Grado de proba

PROPIEDADES MATERIAIS

Parámetro Característica
Tipo/Dopante P, Boro N, Fósforo N, Antimonio N, Arsénico
Orientacións <100>, <111> separa as orientacións segundo as especificacións do cliente
Contido de osíxeno 1019ppmA Tolerancias personalizadas segundo a especificación do cliente
Contido de carbono < 0,6 ppmA

PROPIEDADES MECÁNICAS

Parámetro Primeiro Monitor/Proba A Proba
Diámetro 200 ± 0,2 mm 200 ± 0,2 mm 200 ± 0,5 mm
Espesor 725 ± 20 µm (estándar) 725 ± 25 µm (estándar) 450 ± 25 µm

625 ± 25 µm

1000 ± 25 µm

1300 ± 25 µm

1500 ± 25 µm

725 ± 50 µm (estándar)
TTV < 5 µm < 10 µm < 15 µm
Proa < 30 µm < 30 µm < 50 µm
Envolver < 30 µm < 30 µm < 50 µm
Redondeo de bordes SEMI-STD
Marcado Só SEMI-Plana primaria, Flats SEMI-STD Jeida Flat, Notch
Parámetro Primeiro Monitor/Proba A Proba
Criterios do lado frontal
Estado da superficie Pulido Química Mecánica Pulido Química Mecánica Pulido Química Mecánica
Rugosidade superficial < 2 A° < 2 A° < 2 A°
Contaminación

Partículas @ > 0,3 µm

= 20 = 20 = 30
Bruma, pozos

Casca de laranxa

Ningún Ningún Ningún
Serra, Marks

Estriacións

Ningún Ningún Ningún
Criterios do lado traseiro
Gretas, patas de gallo, marcas de serra, manchas Ningún Ningún Ningún
Estado da superficie Gravado cáustico

Diagrama detallado

IMG_1463 (1)
IMG_1463 (2)
IMG_1463 (3)

  • Anterior:
  • Seguinte:

  • Escribe aquí a túa mensaxe e envíanolo