Oblea de silicio CZ de tipo N ou P de 6 polgadas

Oblea de silicio CZ Si de tipo N ou P de 6 polgadas Imaxe destacada

Descrición curta:

As obleas de silicio de 6 polgadas son un material de substrato de silicio común que se emprega amplamente na fabricación de circuítos integrados. Estas obleas procésanse e límpanse para crear varios tipos de circuítos integrados, incluíndo microprocesadores, chips de memoria, sensores e outros dispositivos electrónicos. As vantaxes das obleas de silicio de 6 polgadas inclúen a súa gran superficie, boa condutividade térmica e custo relativamente baixo. Estas características fan das obleas de silicio de 6 polgadas unha das opcións ideais para a fabricación de circuítos integrados.

Envíanos un correo electrónico

Características

Introdución da caixa de obleas

Especificacións da oblea de silicio:

Crecemento de obleas de silicio de 6 polgadas: CZ, MCZ, FZ.

6 Grao de oblea de silicio: Prime, Test, Dummy, etc.

Diámetro da oblea de silicio de 6 polgadas: 6 polgadas/150 mm.

Grosor da oblea de silicio de 6 polgadas: 200 ~ 3000 µm.

Acabado de oblea de silicio de 6 polgadas: cortada, lapeada, gravada, SSP, DSP, etc.

Orientación da oblea de silicio de 6 polgadas: (100) (111) (110) (531) (553) etc.

Oblea de silicio de 6 polgadas Corte de ata 4 graos.

Oblea de silicio de 6 polgadas Tipo/dopante: P/B, N/Phos, N/As, N/Sb, intrínseco.

Resistividade dunha oblea de silicio de 6 polgadas: CZ/MCZ: de 0,001 a 1000 ohm-cm. FZ: ata 20 000 ohm-cm.

Películas finas de oblea de silicio de 6 polgadas: (a) PVD: Al, Cu, Au, Cr, Si, Ni;, Fe, Mo. etc., Espesores de revestimento de ata 20.000A/5%.

(b) LPCVD/PECVD: óxido, nitruro, siC, etc., espesores de revestimento de ata 200.000A/3%.

Procesos de obleas de silicio de 6 polgadas: a.DSP, ultrafinas, ultraplanas, etc.

b. Redución de tamaño, retromoción, corte en dados, etc. c. MEMS.

Desde 2010, Shanghai XKH Material Tech. Co., Ltd comprométese a proporcionar aos clientes solucións completas de obleas de silicio de 4 polgadas, desde obleas de nivel de depuración (obleas ficticias), obleas de nivel de proba (obleas de proba) ata obleas de nivel de produto (obleas principais), así como obleas especiais, obleas de óxido, obleas de nitruro Si3N4, obleas chapadas en aluminio, obleas de silicio chapadas en cobre, obleas SOI, vidro MEMS, obleas ultragrosas e ultraplanas personalizadas, etc., con tamaños que van dende os 50 mm ata os 300 mm, e podemos proporcionar obleas semicondutoras con pulido, adelgazamento, corte en dados, MEMS e outros servizos de procesamento e personalización dunha ou dúas caras.