Obleas de SiC de carburo de silicio de 2 polgadas de 50,8 mm dopadas tipo N de investigación de produción e grao simulado

Material do substrato: carburo de silicio 4H (4H-SiC)

Estrutura cristalina: tetrahexaédrica (4H)

Dopaxe: non dopado (4H-N)

Tamaño: 2 polgadas

Tipo de condutividade: tipo N (dopado n)

Condutividade: semicondutor

Perspectivas do mercado: as obleas de SiC non dopadas 4H-N teñen moitas vantaxes, como alta condutividade térmica, baixa perda de condución, excelente resistencia a altas temperaturas e alta estabilidade mecánica e, polo tanto, teñen unha ampla perspectiva de mercado en electrónica de potencia e aplicacións de RF.Co desenvolvemento das enerxías renovables, os vehículos eléctricos e as comunicacións, hai unha demanda crecente de dispositivos con alta eficiencia, operación a alta temperatura e alta tolerancia á potencia, o que proporciona unha oportunidade de mercado máis ampla para as obleas de SiC non dopadas 4H-N.

Usos: as obleas de SiC non dopadas 4H-N de 2 polgadas pódense usar para fabricar unha variedade de dispositivos electrónicos de potencia e RF, incluíndo, entre outros:

MOSFET 1--4H-SiC: transistores de efecto de campo semicondutores de óxido metálico para aplicacións de alta potencia/alta temperatura.Estes dispositivos teñen baixas perdas de condución e conmutación para proporcionar unha maior eficiencia e fiabilidade.

JFET 2--4H-SiC: FET de unión para amplificadores de potencia de RF e aplicacións de conmutación.Estes dispositivos ofrecen un rendemento de alta frecuencia e unha alta estabilidade térmica.

Diodos Schottky 3--4H-SiC: diodos para aplicacións de alta potencia, alta temperatura e alta frecuencia.Estes dispositivos ofrecen unha alta eficiencia con baixas perdas de condución e conmutación.

Dispositivos optoelectrónicos 4--4H-SiC: dispositivos utilizados en áreas como díodos láser de alta potencia, detectores UV e circuítos integrados optoelectrónicos.Estes dispositivos teñen características de alta potencia e frecuencia.

En resumo, as obleas de SiC non dopadas 4H-N de 2 polgadas teñen o potencial para unha ampla gama de aplicacións, especialmente en electrónica de potencia e RF.O seu rendemento superior e estabilidade ás altas temperaturas convértenos nun forte candidato para substituír os materiais tradicionais de silicio para aplicacións de alto rendemento, alta temperatura e alta potencia.