Sistema de orientación de obleas para a medición da orientación do cristal

Un instrumento de orientación de obleas é un dispositivo de alta precisión que utiliza os principios da difracción de raios X para optimizar os procesos de fabricación de semicondutores e ciencia de materiais mediante a determinación de orientacións cristalográficas. Os seus compoñentes principais inclúen unha fonte de raios X (por exemplo, Cu-Kα, lonxitude de onda de 0,154 nm), un goniómetro de precisión (resolución angular ≤0,001°) e detectores (CCD ou contadores de centelleo). Ao rotar mostras e analizar patróns de difracción, calcula índices cristalográficos (por exemplo, 100, 111) e espazado de rede cunha precisión de ±30 segundos de arco. O sistema admite operacións automatizadas, fixación ao baleiro e rotación multieixe, compatible con obleas de 2-8 polgadas para medicións rápidas de bordos de obleas, planos de referencia e aliñamento de capas epitaxiales. As aplicacións clave inclúen carburo de silicio orientado ao corte, obleas de zafiro e validación do rendemento a alta temperatura das palas das turbinas, mellorando directamente as propiedades eléctricas e o rendemento do chip.