Placa cerámica de carburo de silicio (SiC)

Descrición curta:

As placas cerámicas de carburo de silicio (SiC) son compoñentes cerámicos avanzados de alta resistencia e alta pureza deseñados para ambientes que requiren unha estabilidade térmica, robustez mecánica e resistencia química excepcionais. Coa súa excelente dureza, baixa densidade e condutividade térmica superior, as placas de SiC úsanse amplamente no procesamento de semicondutores, fornos de alta temperatura, maquinaria de precisión e ambientes industriais corrosivos.

Envíanos un correo electrónico

Características

Diagrama detallado

Visión xeral do produto

Estas placas manteñen a integridade estrutural en condicións extremas, o que as converte nunha solución material ideal para equipos de alto rendemento de próxima xeración.

Características e propiedades principais

Alta dureza e resistencia ao desgaste– Comparable ao diamante, o que garante unha longa vida útil.
baixa expansión térmica– Minimiza a deformación baixo quecemento ou arrefriamento rápido.
Alta condutividade térmica– Disipación eficiente da calor para sistemas de control térmico.
Estabilidade química excepcional– Resistente a ácidos, álcalis e ambientes plasmáticos.
Lixeiro pero extremadamente forte– Alta relación resistencia-peso en comparación cos metais.
Excelente rendemento a altas temperaturas– Temperaturas de traballo ata 1600 °C (dependendo do grao).
Forte rixidez mecánica– Ideal para un soporte preciso e estabilidade estrutural.

Método de fabricación

As placas cerámicas de SiC prodúcense normalmente mediante un dos seguintes procesos:

• Carburo de silicio unido por reacción (RBSC / RBSiC)

Formado pola infiltración de silicio fundido nunha preforma porosa de SiC
Presenta alta resistencia, boa maquinabilidade e estabilidade dimensional
Adecuado para placas grandes que requiren un control preciso da planitude

• Carburo de silicio sinterizado (SSiC)

Producido mediante sinterización sen presión de po de SiC de alta pureza
Ofrece pureza, forza e resistencia á corrosión superiores
Ideal para aplicacións químicas e de semicondutores que requiren condicións ultralimpas

• Carburo de silicio CVD (CVD-SiC)

proceso de deposición química de vapor
Máxima pureza, superficie extremadamente densa e ultrasuave
Común en portadores de obleas de semicondutores, susceptores e pezas de cámaras de baleiro

Aplicacións

As placas cerámicas de SiC úsanse amplamente en múltiples industrias:

Semicondutores e electrónica

Placas portadoras de obleas
Susceptores
Compoñentes do forno de difusión
Pezas da cámara de gravado e deposición

Compoñentes de fornos de alta temperatura

Placas de soporte
Mobles de forno
Illamento e protección do sistema de calefacción

Equipamento industrial

Placas de desgaste mecánico
Almofadas deslizantes
Compoñentes de bomba e válvula
Placas resistentes á corrosión química

Aeroespacial e Defensa

Placas estruturais lixeiras de alta resistencia
Compoñentes de blindaxe para altas temperaturas

Especificacións e personalización

As placas cerámicas de SiC pódense fabricar segundo debuxos personalizados:

• Dimensións:
Grosor: 0,5–30 mm
Lonxitude máxima do lado: ata 600 mm (varía segundo o proceso)

• Tolerancia:
±0,01–0,05 mm dependendo da calidade de mecanizado

• Acabado superficial:

Molido / solapado
Pulido (Ra < 5 nm para CVD-SiC)
Superficie como sinterizada

• Graos de materiais:
RBSiC / SSiC / CVD-SiC

• Opcións de forma:
Placas planas, placas cadradas, placas redondas, placas ranuradas, placas perforadas, etc.

Preguntas frecuentes sobre as lentes de cuarzo

P1: Cal é a diferenza entre as placas RBSiC e SSiC?

A:O RBSiC ofrece unha boa resistencia mecánica e un bo rendemento en termos de custos, mentres que o SSiC ten maior pureza, mellor resistencia á corrosión e maior resistencia. O SSiC é o preferido para aplicacións químicas e de semicondutores.

P2: Poden as placas cerámicas de SiC soportar choques térmicos?

A:Si. O SiC ten baixa expansión térmica e alta condutividade térmica, o que garante unha excelente resistencia aos choques térmicos.

P3: Pódense pulir as placas para aplicacións en superficies de espello?

A:Si. O CVD-SiC e o SSiC de alta pureza poden conseguir un pulido de grao espello para requisitos ópticos ou de semicondutores.

P4: Admiten mecanizado personalizado?

A:Si. As placas pódense fabricar segundo os seus debuxos, incluíndo buratos, ranuras, rebaixes e formas especiais.

Sobre nós

XKH especialízase no desenvolvemento, produción e venda de alta tecnoloxía de vidro óptico especial e novos materiais de cristal. Os nosos produtos utilízanse para electrónica óptica, electrónica de consumo e o ámbito militar. Ofrecemos compoñentes ópticos de zafiro, cubertas para lentes de teléfonos móbiles, cerámica, LT, carburo de silicio SIC, cuarzo e obleas de cristal semicondutor. Con experiencia cualificada e equipos de vangarda, destacamos no procesamento de produtos non estándar, co obxectivo de ser unha empresa líder en materiais optoelectrónicos de alta tecnoloxía.