Ni substrato/oblea Estrutura cúbica de cristal único a=3,25 A densidade 8,91

As orientacións cristalográficas dos substratos de Ni, como <100>, <110> e <111>, xogan un papel crucial na determinación da superficie do material e das propiedades de interacción. Estas orientacións proporcionan capacidades de coincidencia de celosía con diferentes materiais de película delgada, que permiten un crecemento preciso das capas epitaxiais. Ademais, a resistencia á corrosión do níquel faino duradeiro en ambientes duros, o que é beneficioso para aplicacións no procesamento aeroespacial, marítimo e químico. A súa resistencia mecánica garante ademais que os substratos de Ni poidan soportar os rigores do procesamento físico e da experimentación sen degradarse, proporcionando unha base estable para as tecnoloxías de deposición e revestimento de película fina. Esta combinación de propiedades térmicas, eléctricas e mecánicas fai que os substratos de Ni sexan esenciais para a investigación avanzada en nanotecnoloxía, ciencia da superficie e electrónica.
As características do níquel poden incluír unha alta dureza e resistencia, que poden ser tan duras como 48-55 HRC. Boa resistencia á corrosión, especialmente aos ácidos e álcalis e outros medios químicos teñen unha excelente resistencia á corrosión. Boa condutividade eléctrica e magnetismo, é un dos principais compoñentes da fabricación de aliaxes electromagnéticas.
O níquel pódese usar en moitos campos, como material condutor para compoñentes electrónicos e como material de contacto. Úsase para fabricar baterías, motores, transformadores e outros equipos electromagnéticos. Úsase en conectores electrónicos, liñas de transmisión e outros sistemas eléctricos. Como material estrutural para equipos químicos, recipientes, canalizacións, etc. Úsase para fabricar equipos de reacción química con requisitos de alta resistencia á corrosión. Utilízase en campos farmacéuticos, petroquímicos e outros nos que se require estritamente a resistencia á corrosión dos materiais.

Os substratos de níquel (Ni), debido ás súas versátiles propiedades físicas, químicas e cristalográficas, atopan numerosas aplicacións en diversos campos científicos e industriais. A continuación móstranse algunhas das principais aplicacións dos substratos de Ni: Os substratos de níquel úsanse amplamente na deposición de películas finas e capas epitaxiais. As orientacións cristalográficas específicas dos substratos de Ni, como <100>, <110> e <111>, proporcionan unha combinación de celosía con varios materiais, o que permite un crecemento preciso e controlado de películas finas. Os substratos de Ni úsanse a miúdo no desenvolvemento de dispositivos de almacenamento magnético, sensores e dispositivos espintrónicos, onde o control do xiro electrónico é fundamental para mellorar o rendemento do dispositivo. O níquel é un excelente catalizador para as reaccións de evolución de hidróxeno (HER) e as reaccións de evolución de osíxeno (OER), que son fundamentais na división da auga e na tecnoloxía das pilas de combustible. Os substratos de Ni úsanse a miúdo como materiais de apoio para revestimentos catalíticos nestas aplicacións, contribuíndo a procesos de conversión de enerxía eficientes.
Podemos personalizar varias especificacións, grosores e formas do substrato de cristal único Ni segundo os requisitos específicos dos clientes.