O substrato de zafiro estampado (PSS) de 2 polgadas, 4 polgadas e 6 polgadas sobre o que se cultiva o material GaN pódese usar para a iluminación LED

Descrición curta:

O substrato de zafiro con patrón (PSS) é unha máscara para gravado en seco no substrato de zafiro. A máscara grávase cun patrón mediante un proceso de litografía estándar, o zafiro grávase mediante tecnoloxía de gravado ICP, retírase a máscara e, finalmente, faise crecer material de GaN sobre el, de xeito que a epitaxia lonxitudinal do material de GaN se converta en epitaxia horizontal. Este proceso implica varios pasos, como o revestimento de fotorresina, a exposición por pasos, o revelado do patrón de exposición, o gravado en seco ICP e a limpeza.


Detalle do produto

Etiquetas do produto

Características principais

1. Características estruturais:
A superficie PSS ten un patrón cónico ordenado de cono ou triangular cuxa forma, tamaño e distribución poden controlarse axustando os parámetros do proceso de gravado.
Estas estruturas gráficas axudan a cambiar a traxectoria de propagación da luz e a reducir a reflexión total da luz, mellorando así a eficiencia da extracción da luz.

2. Características do material:
O PSS usa zafiro de alta calidade como material de substrato, que ten as características de alta dureza, alta condutividade térmica, boa estabilidade química e transparencia óptica.
Estas características permiten que o PSS soporte ambientes agresivos, como altas temperaturas e presións, mantendo ao mesmo tempo un excelente rendemento óptico.

3. Rendemento óptico:
Ao cambiar a dispersión múltiple na interface entre o GaN e o substrato de zafiro, a PSS fai que os fotóns que se reflicten completamente dentro da capa de GaN teñan a oportunidade de escapar do substrato de zafiro.
Esta característica mellora significativamente a eficiencia de extracción de luz do LED e aumenta a intensidade luminosa do LED.

4. Características do proceso:
O proceso de fabricación de PSS é relativamente complexo, xa que implica múltiples pasos como a litografía e o gravado, e require equipos e control de procesos de alta precisión.
Non obstante, co avance continuo da tecnoloxía e a redución de custos, o proceso de fabricación de PSS optimízase e mellórase gradualmente.

Vantaxe principal

1. Mellora a eficiencia de extracción de luz: o PSS mellora significativamente a eficiencia de extracción de luz dos LED ao cambiar a traxectoria de propagación da luz e reducir a reflexión total.

2. Prolonga a vida útil do LED: o PSS pode reducir a densidade de dislocación dos materiais epitaxiais de GaN, reducindo así a recombinación non radiativa e a corrente de fuga inversa na rexión activa, prolongando a vida útil do LED.

3. Mellora do brillo do LED: debido á mellora da eficiencia de extracción da luz e á prolongación da vida útil do LED, a intensidade luminosa do LED no PSS mellora significativamente.

4. Reducir os custos de produción: Aínda que o proceso de fabricación de PSS é relativamente complexo, pode mellorar significativamente a eficiencia luminosa e a vida útil dos LED, reducindo así os custos de produción ata certo punto e mellorando a competitividade do produto.

Principais áreas de aplicación

1. Iluminación LED: o PSS como material de substrato para chips LED pode mellorar significativamente a eficiencia luminosa e a vida útil dos LED.
No campo da iluminación LED, o PSS úsase amplamente en varios produtos de iluminación, como lámpadas de rúa, lámpadas de mesa, luces de automóbiles, etc.

2. Dispositivos semicondutores: Ademais da iluminación LED, o PSS tamén se pode empregar para fabricar outros dispositivos semicondutores, como detectores de luz, láseres, etc. Estes dispositivos teñen unha ampla gama de aplicacións en comunicación, medicina, militar e outros campos.

3. Integración optoelectrónica: As propiedades ópticas e a estabilidade do PSS convérteno nun dos materiais ideais no campo da integración optoelectrónica. Na integración optoelectrónica, o PSS pódese usar para fabricar guías de onda ópticas, interruptores ópticos e outros compoñentes para realizar a transmisión e o procesamento de sinais ópticos.

Parámetros técnicos

Elemento Substrato de zafiro estampado (2~6 polgadas)
Diámetro 50,8 ± 0,1 mm 100,0 ± 0,2 mm 150,0 ± 0,3 mm
Espesor 430 ± 25 μm 650 ± 25 μm 1000 ± 25 μm
Orientación da superficie Plano C (0001) fóra do ángulo respecto ao eixe M (10-10) 0,2 ± 0,1°
Plano C (0001) fóra do ángulo respecto ao eixe A (11-20) 0 ± 0,1°
Orientación plana primaria Plano A (11-20) ± 1,0°
Lonxitude plana primaria 16,0 ± 1,0 mm 30,0 ± 1,0 mm 47,5 ± 2,0 mm
Plano R ás 9 da mañá
Acabado da superficie frontal Estampado
Acabado da superficie traseira SSP: Molido fino, Ra=0,8-1,2 um; DSP: Epipulido, Ra<0,3 nm
Marca láser Parte traseira
TVG ≤8 μm ≤10 μm ≤20 μm
ARCO ≤10 μm ≤15 μm ≤25 μm
URPIÓN ≤12 μm ≤20 μm ≤30 μm
Exclusión de bordos ≤2 mm
Especificación do patrón Estrutura de forma Cúpula, Cono, Pirámide
Altura do patrón 1,6~1,8 μm
Diámetro do patrón 2,75~2,85 μm
Espazo de patróns 0,1~0,3 μm

XKH céntrase no desenvolvemento, produción e venda de substratos de zafiro estampados (PSS) e comprométese a fornecer produtos PSS de alta calidade e alto rendemento a clientes de todo o mundo. XKH conta con tecnoloxía de fabricación avanzada e un equipo técnico profesional que pode personalizar os produtos PSS con diferentes especificacións e diferentes estruturas de patróns segundo as necesidades do cliente. Ao mesmo tempo, XKH presta atención á calidade do produto e do servizo e comprométese a fornecer aos clientes unha gama completa de soporte e solucións técnicas. No campo do PSS, XKH acumulou unha rica experiencia e vantaxes e agarda con interese traballar xunto con socios globais para promover conxuntamente o desenvolvemento innovador da iluminación LED, os dispositivos semicondutores e outras industrias.

Diagrama detallado

Substrato de zafiro con patrón (PSS) 6
Substrato de zafiro con patrón (PSS) 5
Substrato de zafiro con patrón (PSS) 4

  • Anterior:
  • Seguinte:

  • Escribe aquí a túa mensaxe e envíanosla